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集成電路超純水設備

作者:北京水處理設備公司來源:超純水設備發布時間:2017-10-24

   集成電路超純水設備用於新興的光電材料生產、加工、清洗,LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。都應該使用多種純化技術相結合製取高品質的純水,這樣才能大大提高純水的純度,符合用水需求。而臨床實驗用純水設備采用雙級反滲透技術與純化、殺菌技術相結合,出水水質達到美國ASTM、NCCLS、CAP試劑級純水標準。

  集成電路超純水設備工藝設計

  1、預處理係統→反滲透係統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ、CM)(傳統工藝)。

  2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0、2或0、5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ、CM)(新工藝)。

  3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0、2或0、5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ、CM)(新工藝)。

  4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0、2或0、5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ、CM)(新工藝)。

  5、預處理係統→反滲透係統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ、CM)(傳統工藝)。

集成電路超純水設備

  集成電路超純水設備設備特點

  1、采用進口反滲透膜,脫鹽率高,使用壽命長,運行成本低廉。

  2、無需酸堿處理,環保無“三廢”。

  3、自動控製,自動維護,水質在線檢測,隨時監測水質變化。

  4、切合當地水質的個性化設計,全方位滿足需求。

  5、全自動控製係統,日常操作極為簡便,係統自動進行衝洗維護,製取產品水過程不需要任何手工操作。

  6、雙流路設計,不但可以製造超純水,還生產純水,方便用戶實驗室的不同級別用水要求。

  7、預留了升級空間。可以根據用戶需要輕鬆實現功能升級。

  集成電路超純水設備技術參數

  電子級超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ、cm、15MΩ、cm、10MΩ、cm、2MΩ、cm、0、5MΩ、cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

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